Πολλά βοηθητικά υλικά βαφής και φινιρίσματος χρησιμοποιούν συχνά το σύμπλεγμα επιφανειοδραστικών ουσιών

2022-03-16 00:13:58

Τα τελευταία χρόνια, με τη συνεχή ανανέωση των ποικιλιών υφαντικών ινών, εμφανίζονται νέα υλικά συνθετικών ινών όπως σύνθετες ίνες, ίνες ειδικού σχήματος και εξαιρετικά λεπτές ίνες, που θέτει νέες απαιτήσεις για την επεξεργασία εκτύπωσης και βαφής. Τα βοηθητικά υλικά βαφής και φινιρίσματος που χρησιμοποιούνται μετά την εκτύπωση και τη βαφή υφασμάτων συνήθως απαιτούν καλή διαβροχή στο ύφασμα, ισχυρή ικανότητα διαλυτοποίησης και διασποράς των βαφών και κάποια συγγένεια για βαφές ή ίνες, γεγονός που μπορεί να επιβραδύνει τον ρυθμό βαφής των ινών για να επιτευχθεί ο σκοπός της στάθμης βαφής. Επιπλέον, ανάλογα με τις ειδικές ανάγκες, μπορεί να έχει μια συγκεκριμένη απαλότητα ή υδατοαπωθητική επίδραση στο ύφασμα. Επομένως, η διαβροχή, η συνεργική, η διασπορά, η ισοπέδωση, η μαλάκυνση και η υδατοαπωθητική δράση των επιφανειοδραστικών ουσιών είναι μεγάλης σημασίας για τη βιομηχανία εκτύπωσης και βαφής κλωστοϋφαντουργικών προϊόντων.

Όταν το διάλυμα τασιενεργού περιέχει ομόλογα ή προσθέτει άλλο τασιενεργό ή οργανικό ή ανόργανο ηλεκτρολύτη, οι φυσικοχημικές ή επιφανειακές ιδιότητες του διαλύματος θα αλλάξουν σημαντικά και η απόδοση εφαρμογής του θα αλλάξει.

Γενικά, η τιμή υδρόφιλης λιπόφιλης ισορροπίας (HLB) χρησιμοποιείται για να αντιπροσωπεύει τον βαθμό αμοιβαίας ισορροπίας υδρόφιλων και υδρόφοβων ομάδων σε επιφανειοδραστικές ουσίες. Για τα μη ιονικά επιφανειοδραστικά, το σημείο νέφους χρησιμοποιείται επίσης για να εκφράσει την υδροφιλία. Όσο μεγαλύτερη είναι η τιμή HLB, όσο υψηλότερο είναι το σημείο νέφωσης, τόσο καλύτερη είναι η υδροφιλία των επιφανειοδραστικών ουσιών. Επιπλέον, η κρίσιμη συγκέντρωση μικκυλίου (CMC) λαμβάνεται συχνά ως η ελάχιστη συγκέντρωση επιφανειοδραστικού για να σχηματιστούν μικκύλια, και η αντίστροφη συγκέντρωση CMC (1 / CMC) χρησιμοποιείται για να αντιπροσωπεύσει την αποτελεσματικότητα της μείωσης της επιφανειακής τάσης. Όσο χαμηλότερο είναι το CMC, τόσο μεγαλύτερη είναι η απόδοση. Επιπλέον, η επιφανειακή τάση του επιφανειοδραστικού στο CMC ήταν επίσης (γ CMC) χρησιμοποιείται ως επιφανειοδραστικό για τη μείωση της επιφανειακής τάσης του νερού. Μπορεί να φανεί ότι το HLB, το σημείο νέφους, το CMC και το γ CMC μπορούν να χρησιμοποιηθούν ως μέτρο για τον χαρακτηρισμό των επιφανειακών ιδιοτήτων των επιφανειοδραστικών ουσιών.

Στην κλωστοϋφαντουργία, πολλά βοηθητικά προϊόντα βαφής και φινιρίσματος χρησιμοποιούν συχνά το σύμπλεγμα επιφανειοδραστικών ουσιών. Ωστόσο, ο συνδυασμός επιφανειοδραστικών ουσιών παράγει συνεργιστικά και συνεργιστικά αποτελέσματα και υπάρχουν λειτουργίες που δεν έχει ένα μόνο τασιενεργό. Ως εκ τούτου, η τεχνολογία σύνθεσης και η συνεργιστική επίδραση των επιφανειοδραστικών ουσιών, καθώς και η σχέση μεταξύ των χαρακτηριστικών της επιφάνειας και των ιδιοτήτων εφαρμογής μετά τη σύνθεση, έχουν γίνει μια σημαντική ερευνητική κατεύθυνση στον τομέα των βοηθητικών υλικών εκτύπωσης και βαφής, καθώς και ένα εξαιρετικά σημαντικό ερευνητικό περιεχόμενο για τη βελτίωση της ποιότητας της εκτύπωσης και της βαφής. Επί του παρόντος, υπάρχει μεγάλο χάσμα μεταξύ της ποιότητας των βοηθητικών υλικών εκτύπωσης και βαφής στην Κίνα και των ξένων προϊόντων. Εκτός από τις μονότονες ποικιλίες, την ατελή απόδοση και την ανεπαρκή ικανότητα ανάπτυξης, υπάρχει λίγη έρευνα σχετικά με την αρχή της σύνθεσης επιφανειοδραστικών και τη σχέση της με την απόδοση εφαρμογής, η οποία πρέπει να ενισχυθεί για να παρέχει περισσότερες θεωρητικές οδηγίες για την ανάπτυξη και την εφαρμογή του προϊόντος.